- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
|
產品名稱 |
單道連續可調微量移液器 |
|||||||
|
主要特點 |
1. 四位數字體積顯示，位置合理，讀書容易、直觀，清晰可見 2. 低彈簧操作力，輕質和低阻力密封，更輕的操作力 3. 手柄掛鉤設計，保證產品美觀的同時，實用性大大提高 4. 管嘴推出器可拆卸，便于清洗和保養 5. 增加微調結構，如果有特殊需求或意外誤差，可以自行進行調節 6. 可拆卸槍腳件，使用乙醇**，用專用六角板可旋下腳件，對柱塞進行保養 7. 更好的吸頭退出率 8. 整機采用ABS高強度塑料制作而成，堅固耐用 9. 伸縮式彈性吸嘴設計，防止洗頭安裝高高低低確保移液氣密性和均勻性 |
|||||||
|
產品規格 |
型號 |
容量范圍（μl） |
容量（μl） |
容量允許誤差（%） |
重復性誤差（%） |
增量 |
||
|
|
WKYⅢ-0.1 |
0.1—2.5 |
0.1 2 2.5 1 |
±4.1 ±2.1 ±1.1 ±4.0 |
≤2.5 ≤2 ≤0.9 ≤2.0 |
0.1μl |
||
|
|
WKYⅢ-0.5 |
0.5—10 |
1 5 10 |
±4 ±2 ±1 |
≤2.0 ≤1.5 ≤0.8 |
0.1μl |
||
|
|
WKYⅢ-2 |
2—20 |
2 10 20 |
±3.5 ±1.5 ±1.0 |
≤2.0 ≤1.0 ≤0.6 |
0.5μl |
||
|
|
WKYⅢ-5 |
5—50 |
5 25 50 |
±4 ±2 ±1 |
≤1.5 ≤1.0 ≤0.8 |
0.5μl |
||
|
|
WKYⅢ-10 |
10—100 |
10 50 100 |
±1 ±0.8 ±2.0 |
≤1.5 ≤0.4 ≤0.3 |
1μl |
||
|
|
WKYⅢ-20 |
20—200 |
20 100 200 |
±2.0 ±0.8 ±0.8 |
≤1.0 ≤0.4 ≤0.3 |
1μl |
||
|
|
WKYⅢ-50 |
50—200 |
50 100 200 |
±1.0 ±0.8 ±0.8 |
≤0.4 ≤0.4 ≤0.3 |
1μl |
||
|
|
WKYⅢ-100 |
100—1000 |
100 500 1000 |
±1.0 ±0.6 ±0.8 |
≤0.6 ≤0.4 ≤0.3 |
5μl |
||
|
|
WKYⅢ-200 |
200—1000 |
200 500 1000 |
±1.0 ±0.9 ±0.8 |
≤0.5 ≤0.4 ≤0.3 |
5μl |
||
|
|
WKYⅢ-1000 |
1000—5000 |
1000 2500 5000 |
±1.0 ±0.9 ±0.9 |
≤0.4 ≤0.3 ≤0.5 |
50μl |
||
|
|
WKYⅢ-10ml |
1—10ml |
1000 5000 10000 |
±0.8 ±3 ±4 |
≤1.0 ≤0.9 ≤0.8 |
100μl |
||
|
標準配件 |
1 |
多用途扳手 |
1個 |
|
||||
|
|
2 |
便攜式槍掛 |
1個 |
|
||||
|
|
3 |
槍頭 |
若干個 |
|
||||
|
|
4 |
簡易支架 |
1個 |
|
||||
|
可選配件 |
移液槍支架
|
其他規格槍頭
|
||||||
